第164章 浸入式光刻技术【1 / 2】

兜兜转转一圈下来,赵烨发觉再搞出三微米技术之前,他必须还要脚踏实地的搞出一个中间阶段来。

直接上三微米,目前面临的问题太多了。不是说硬上不行,而是就算做出来了,在应用上一系列的设备根本就支持不了。

这就好比火车提速,不是说你的火车发动机功率足够就可以了,你要想跑得快,从车厢设计,转向架,车轮,钢轨,弯道,线路,等等等等,都要符合提速后的要求才行。这些东西不支持,你光有一个发动机是不够的。

第二代光刻技术如今已经很成熟了。

半自动化的操作,让成品率保持在了一个能够接受的范围内。如今赵烨看着实验室里的这台设备,想的是一个投机取巧的办法。说白了,就是把现在的干法蚀刻,变成湿法蚀刻。

简单来讲,就是把要照射的硅晶片,浸到水里。

水是种透明的液体,纯净的水,在一定温度下,它的折射率是固定的。那么把硅晶片放到水里,在紫外光照射到硅晶片之前,要先经过水的折射。

只要控制好掩模和光照的方向,就能在现有的设备基础上,把制程工艺提高半步。

这样一来,之前制程,就能进步到5微米上下了。

有了这个工艺方法,赵烨就可以在以后的技术升级中,占有一定的优势。

设想是好的,不过想要实现这个技术,难度也很大。

比如水是液体,在工作台晃动的时候,水是会跟着动的,而且在工作台停下来的时候,水是不会立刻就停止运动的。

这样一来,如果光线照射下来,就会因为水的不均匀,似的折射角度发生极大的偏差。

所以这个时候,就要求工作台不能移动,或者是说不能过多移动。

还有一种方法,是把液体的盛在一个密闭的容器里,这样就能避免液体的波动造成的误差。

不过这样一来,也有它的弊端,一是操作不便,效率低下。再者就是用于密封的容器,本身就可以看成一组镜片。他的纯净度和折射率同样是不规整的。

假如可以做出纯净度和折射率都很完美的玻璃,那直接做透镜组就好啦,干嘛还用来做容器呢?这就是多此一举了。

用水,本身就是利用了纯净的水容易加工这一特性,再给它加个盖子,那才是脱了裤子放屁,多此一举呢。

赵烨一个人蹲在实验室里,连着好多天都在看着这台设备发呆。

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